Les fabricants chinois de semi-conducteurs ont sollicité le gouvernement afin qu'il crée une analyse nationale d'ASML.

Les dirigeants chinois de l'industrie des semi-conducteurs appellent à une coordination nationale pour le développement de la lithographie EUV (2026–2030)

Dans un article publié dans le cadre d'une édition spéciale, les hauts responsables des plus grandes entreprises chinoises du microfabrication ont présenté un plan d'action commun. L'objectif est de synchroniser les efforts de développement des systèmes lithographiques afin d'accroître l'indépendance technologique du pays.

Qui a pris la parole | Résumé du discours
Chao Jingzhong (Naura Technology Group) : Il a appelé à rassembler les ressources nationales pour intégrer les percées obtenues dans différents instituts.
Chen Nansyan (Yangtze Memory Technologies Corp.) : Il a jugé nécessaire de créer une « ASML chinoise » afin de surmonter la barrière des approvisionnements externes et d'accroître l'autosuffisance.
Liu Weiping (Empyrean Technology) : Il a souligné l'importance de répartir les fonds et les ressources humaines pour créer une entreprise intégrée.

Représentants des principaux instituts de l'industrie des semi-conducteurs
Ils ont identifié les points faibles clés : le logiciel d'automatisation de la conception, les matériaux des plaquettes de silicium et les technologies gazeuses.

Pourquoi c'est si important maintenant
* Les restrictions à l'exportation américaines (depuis 2020) limitent l'accès de la Chine aux technologies inférieures à 7 nm, rendant la lithographie EUV cruciale.

* ASML est le seul fournisseur mondial de machines pour la lithographie EUV. L'équipement se compose de 100 000 composants provenant de 5 000 fournisseurs ; ASML ne fait que les assembler.

* Percées internes : La Chine a réalisé des avancées significatives dans certains domaines (lasers EUV, fabrication de plaquettes de silicium, systèmes optiques), mais l'intégration de ces technologies reste un défi complexe.

Axes clés du travail
1. Créer une plateforme unique pour la recherche et le développement d'appareils et de composants de pointe.

2. Développer des logiciels d'automatisation de la conception électronique.

3. Renforcer les sciences des matériaux : production de plaquettes de silicium de haute qualité et de gaz nécessaires à la lithographie EUV.

4. Mettre en place une coordination nationale dans le cadre du plan quinquennal (15ᵉ période).

Évaluation de la situation actuelle
* La Chine détient environ 33 % du marché mondial du microfabrication sur les processus matures (28 nm et plus).

* Dans ces segments, le pays possède un potentiel significatif tant en conception qu'en production.

En fin de compte, les experts demandent au gouvernement d'élaborer rapidement des plans pour intégrer tous les composants clés de la lithographie EUV. Cela permettra de créer une « ASML » propre à la Chine et d'assurer l'indépendance du pays dans les technologies microfabrication critiques.